三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O⇌2NO+HNO₃+9HF，下列有关该反应的说法正确的是（   ）

A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂

B．HF是还原产物

C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2：1

D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

【考点】氧化还原反应

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