7．
硅单质及其化合物应用范围很广．
\(\rm{(1)}\)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，工业上可以按如下步骤制备高纯硅．
Ⅰ\(\rm{.}\)高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅；
Ⅱ\(\rm{.}\)粗硅与干燥的氯气在\(\rm{450～500℃}\)条件下反应制得\(\rm{SiCl_{4}}\)；
Ⅲ\(\rm{.SiCl_{4}}\)液体经精馏提纯后与过量\(\rm{H_{2}}\)在\(\rm{1}\) \(\rm{100～1}\) \(\rm{200℃}\)条件下反应制得高纯硅．
已知\(\rm{SiCl_{4}}\)沸点为\(\rm{57.6℃}\)，能与\(\rm{H_{2}O}\)强烈反应．
请回答下列问题：
\(\rm{①}\)第Ⅲ步反应的化学方程式为 ______ ．
\(\rm{②}\)整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下\(\rm{.SiCl_{4}}\)在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ______ ；\(\rm{H_{2}}\)还原\(\rm{SiCl_{4}}\)过程中若混入\(\rm{O_{2}}\)，可能引起的后果是 ______ ．
\(\rm{(2)}\)二氧化硅被大量用于生产玻璃\(\rm{.}\)工业上用\(\rm{SiO_{2}}\)、\(\rm{Na_{2}CO_{3}}\)和\(\rm{CaCO_{3}}\)共\(\rm{283kg}\)在高温下完全反应时放出\(\rm{CO_{2}}\) \(\rm{44kg}\)，生产出的玻璃可用化学式\(\rm{Na_{2}SiO_{3}⋅CaSiO_{3}⋅xSiO_{2}}\)表示，则其中\(\rm{x=}\) ______ ．