\(\rm{①}\) 铜片与浓硝酸反应化学反应方程式：
；
\(\rm{②}\) 往氯化铝溶液中加入过量氨水离子方程式： ；
\(\rm{③}\) 工业上利用硅的氧化物制取硅单质，主要反应为：\(\rm{SiO_{2}+2 C}\)
\(\rm{Si+ 2CO↑}\)。该反应中，还原剂是 \(\rm{(}\)填化学式\(\rm{)}\)，被还原的物质是 \(\rm{(}\)填化学式\(\rm{)}\)；若反应中消耗了\(\rm{2 mol C}\)，则生成 \(\rm{mol Si}\)，转移电子的物质的量为 \(\rm{mol}\)。