元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)按原子序数递增的顺序\(\rm{(}\)稀有气体除外\(\rm{)}\)，以下说法正确的是________。

\(\rm{a.}\)原子半径和离子半径均减小

\(\rm{b.}\)金属性减弱，非金属性增强

\(\rm{c.}\)氧化物对应的水化物碱性减弱，酸性增强

\(\rm{d.}\)单质的熔点降低

\(\rm{(2)}\)原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为________，氧化性最弱的简单阳离子是________。

\(\rm{(3)}\)已知：

工业制镁时，电解\(\rm{MgCl_{2}}\)而不电解\(\rm{MgO}\)的原因是________________________________________________________________________

________________________________________________________________________；

制铝时，电解\(\rm{Al_{2}O_{3}}\)而不电解\(\rm{AlCl_{3}}\)的原因是

________________________________________________________________________。

\(\rm{(4)}\)晶体硅\(\rm{(}\)熔点\(\rm{1 410 ℃)}\)是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下：\(\rm{Si(}\)粗\(\rm{)}\)\(\rm{\xrightarrow[Cl_{2}]{460℃}}\)\(\rm{SiCl}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)\(\rm{(}\)纯\(\rm{)}\)\(\rm{\xrightarrow[H_{2}]{1 100℃}}\)\(\rm{Si(}\)纯\(\rm{)}\)

\(\rm{SiCl}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)的电子式为________。

化学与生产、生活、科技、环境等密切相关，下列说法不正确的是

下列物质性质与用途对应关系正确的是

碳、硅及其化合物间的转化关系

\(\rm{① Fe_{2}O_{3}+CO\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{② C+O_{2}(}\)少量\(\rm{)\overset{点燃}{=} }\)
\(\rm{③ CO_{2}+C\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{④ C+O_{2}\overset{点燃}{=} }\)
\(\rm{⑤ SiO_{2}+C\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{⑥ Si+Cl_{2}\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{⑦ SiCl_{4}+H_{2}\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{⑧ Si+HF=}\)　

\(\rm{⑨ SiO_{2}+HF=}\)
\(\rm{⑩ SiO_{2}+NaOH=}\)
离子方程式：_________
\(\rm{SiO_{2}+Na_{2}CO_{3}\overset{高温}{=} }\)
\(\rm{⑪}\) \(\rm{H_{2}SiO_{3}\overset{∆}{=} }\)
\(\rm{⑫}\) \(\rm{Na_{2}SiO_{3}+HCl=}\)
离子方程式：_________
\(\rm{Na_{2}SiO_{3}+CO_{2}+H_{2}O=}\)
离子方程式：_________

下列关于\(\rm{SiO}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)和\(\rm{CO}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的说法中正确的是\(\rm{(}\)　　\(\rm{)}\)

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：

    \(\rm{①}\)高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

    \(\rm{②}\)粗硅与干燥\(\rm{HCl}\)气体反应制得\(\rm{SiHCl_{3}}\)：\(\rm{Si+3HCI \overset{300℃}{=}SiHC{l}_{3}+{H}_{2} }\)

    \(\rm{③SiHCl_{3}}\)与过量\(\rm{H_{2}}\)在\(\rm{1000～1100℃}\)反应制得纯硅

    已知\(\rm{SiHCl_{3}}\)，能与\(\rm{H_{2}O}\)强烈反应，在空气中易自燃。

    请回答下列问题：

    \(\rm{(1)}\)第\(\rm{①}\)步制备粗硅的化学反应方程式为____________________________________；

    \(\rm{(2)}\)粗硅与\(\rm{HCl}\)反应完全后，经冷凝得到的\(\rm{SiHCl_{3}(}\)沸点\(\rm{33.0℃)}\)中含有少量\(\rm{SiCl_{4}(}\)沸点\(\rm{57.6℃)}\)和\(\rm{HC1(}\)沸点\(\rm{-84.7℃)}\)，提纯\(\rm{SiHCl_{3}}\)采用的方法为________________；写出\(\rm{SiHCl_{3}}\)和水反应的化学方程式________________________；\(\rm{(Si}\)元素在产物中以\(\rm{H_{4}SiO_{4}}\)存在\(\rm{)}\)

    \(\rm{(3)}\)用\(\rm{SiHCl_{3}}\)与过量\(\rm{H_{2}}\)反应制备纯硅的装置如下\(\rm{(}\)热源及夹持装置略去\(\rm{)}\)：

    \(\rm{①}\)装置\(\rm{B}\)中的试剂是_________________________；装置\(\rm{C}\)中的烧瓶需要加热，这种加热方式的优点是________________________________；

    \(\rm{②}\)反应一段时间后，装置\(\rm{D}\)中观察到的现象是________________________________，装置\(\rm{D}\)不能采用普通玻璃管的原因是________________________，装置\(\rm{D}\)中发生反应的化学方程式为__________________________________________________________________；

    \(\rm{③}\)为保证制备纯硅实验成功，操作的关键是检查实验装置的气密性，控制好反应温度以__________________________________________________；

    \(\rm{④}\)为鉴定产品硅中是否含微量铁单质，将试样用稀盐酸溶解，取上层清液后需再加入的试剂\(\rm{(}\)填写字母代号\(\rm{)}\)是________；

    \(\rm{a.}\)碘水  \(\rm{b.}\)氯水  \(\rm{c.NaOH}\)溶液  \(\rm{d.KSCN}\)溶液  \(\rm{e.Na_{2}SO_{3}}\)溶液

    \(\rm{⑤}\)列举硅的用途__________________________________________________。\(\rm{(}\)任写两种\(\rm{)}\)

晶体硅是一种重要的非金属材料，模拟制备纯硅的主要步骤如下：

\(\rm{②}\)高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

\(\rm{②}\)粗硅与干燥\(\rm{HCl}\)气体反应制得\(\rm{SiHCl_{3}}\)：\(\rm{Si+3HClSiHCl_{3}+H_{2}}\)

\(\rm{③SiHCl_{3}}\)与过量\(\rm{H_{2}}\)在\(\rm{1 000～1 100℃}\)反应制得纯硅

可能用到的信息如下：

已知\(\rm{SiHCl_{3}}\)能与\(\rm{H_{2}O}\)强烈反应，在空气中易自燃；

步骤\(\rm{②}\)中粗硅与\(\rm{HCl}\)反应时会生成少量\(\rm{SiCl_{4;}}\)

请回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)粗硅与\(\rm{HCl}\)反应完全后，依据上表所示沸点差异提纯\(\rm{SiHCl_{3}}\)。该提纯方法为____________________。

\(\rm{(2)}\)用\(\rm{SiHCl_{3}}\)与过量\(\rm{H_{2}}\)反应制备纯硅的装置如下\(\rm{(}\)热源及夹持装置略去\(\rm{)}\)：

\(\rm{①}\)依次连接的合理顺序为_________________________________________；

装置\(\rm{D}\)中\(\rm{g}\)管的作用是__________________________________________\(\rm{;}\)

装置\(\rm{B}\)中的试剂是_____________________________________________；

装置\(\rm{C}\)中的烧瓶加热的目的是___________________________________。

\(\rm{②}\)装置\(\rm{A}\)中发生反应的化学方程式为______________________________。

_________________________________________________________________________________。

______________________________________________________________________________。

关于物质的用途说法错误的是

工业上常用\(\rm{SiO_{2}}\)与\(\rm{C}\)在高温下发生反应制造粗硅。粗硅中含有\(\rm{SiC}\)，其中\(\rm{Si}\)和\(\rm{SiC}\)的物质的量之比为\(\rm{1︰1}\)。下列说法正确的是