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            • 1．

              硅是带来人类文明的重要元素之一，从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹。

              \(\rm{(1)}\)新型陶瓷\(\rm{Si_{3}N_{4}}\)的熔点高、硬度大、化学性质稳定。工业上可以采用化学气相沉积法，在\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的保护下，使\(\rm{SiCl}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)与\(\rm{N}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)反应生成的\(\rm{Si}\)\(\rm{{\,\!}_{3}}\)\(\rm{N}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)沉积在石墨表面，写出该反应的化学方程式：___________________________________________________________________。

              \(\rm{(2)}\)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅：




              \(\rm{①}\)整个制备过程必须严格控制无水无氧。\(\rm{SiHCl_{3}}\)遇水剧烈反应生成\(\rm{H_{2}SiO_{3}}\)、\(\rm{HCl}\)和另一种物质，写出该反应的化学方程式：___________________。

              \(\rm{②}\)假设每一轮次制备\(\rm{1 mol}\)纯硅，且生产过程中硅元素没有损失，反应Ⅰ中\(\rm{HCl}\)的利用率为\(\rm{90\%}\)，反应Ⅱ中\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的利用率为\(\rm{93.75\%}\)。则在第二轮次的生产中，补充投入\(\rm{HCl}\)和\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的物质的量之比是________。

              难度：中等
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            • 2． 硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础．回答下列问题：
              （1）基态Si原子的核外电子排布式为 ______ ，最高能层具有的原子轨道数为 ______ 、电子数为 ______ ．
              （2）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其晶体类型为 ______ ，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献 ______ 个原子．
              （3）单质硅可通过甲硅烷（SiH4）分解反应来制备．工业上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介质中反应制得SiH4，该反应的化学方程式为 ______ ．
              （4）在硅酸盐中，SiO44-四面体[如图（a）]通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式．图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为 ______ ，Si与O的原子数之比为 ______ ，化学式为 ______ ．
              难度：较易
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            • 3． 元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：
              \(\rm{(1)}\)按原子序数递增的顺序\(\rm{(}\)稀有气体除外\(\rm{)}\)，以下说法正确的是 ______ ．
              \(\rm{a.}\)原子半径和离子半径均减小    \(\rm{b.}\)金属性减弱，非金属性增强
              \(\rm{c.}\)单质的熔点降低              \(\rm{d.}\)氧化物对应的水合物碱性减弱，酸性增强
              \(\rm{(2)}\)原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为 ______ ，氧化性最弱的简单阳离子是 ______ ．
              \(\rm{(3)}\)已知：
              化合物 \(\rm{MgO}\) \(\rm{Al_{2}O_{3}}\) \(\rm{MgCl_{2}}\) \(\rm{AlCl_{3}}\)
              类型 离子化合物 离子化合物 离子化合物 共价化合物
              熔点\(\rm{/℃}\) \(\rm{2800}\) \(\rm{2050}\) \(\rm{714}\) \(\rm{191}\)
              工业制镁时，电解\(\rm{MgCl_{2}}\)而不电解\(\rm{MgO}\)的原因是 ______ ；制铝时，电解\(\rm{Al_{2}O_{3}}\)而不电解\(\rm{AlCl_{3}}\)的原因是 ______ ．
              \(\rm{(4)}\)晶体硅\(\rm{(}\)熔点\(\rm{1410℃)}\)是良好的半导体材料\(\rm{.}\)由粗硅制纯硅过程如下：
              \(\rm{Si(}\)粗\(\rm{) Cl_{2}\overrightarrow{460℃}SiCl_{4} {蒸馏}\overrightarrow{}SiCl_{4}(}\)纯\(\rm{) H_{2}\overrightarrow{1100℃}Si(}\)纯\(\rm{)}\)
              写出\(\rm{SiCl_{4}}\)的电子式： ______ ；在上述由\(\rm{SiCl_{4}}\)制纯硅的反应中，测得每生成\(\rm{1.12kg}\)纯硅需吸收\(\rm{akJ}\)热量，写出该反应的热化学方程式 ______ ．
              \(\rm{(5)}\)下列气体不能用浓硫酸干燥，可用\(\rm{P_{2}O_{5}}\)干燥的是 ______ ．
              \(\rm{a.NH_{3}}\)        \(\rm{b.HI}\)        \(\rm{c.SO_{2}}\)        \(\rm{d.CO_{2}}\)
              \(\rm{(6)KClO_{3}}\)可用于实验室制\(\rm{O_{2}}\)，若不加催化剂，\(\rm{400℃}\)时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为\(\rm{1}\)：\(\rm{1.}\)写出该反应的化学方程式： ______ ．
              难度：较易
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