单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅\(\rm{(}\)含铁、铝、硼、磷等杂质\(\rm{)}\)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅\(\rm{(}\)反应温度\(\rm{450～500 ℃)}\)，四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下：

\(\rm{a.}\)四氯化硅遇水极易水解；

\(\rm{b.}\)硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

\(\rm{c.}\)有关物质的物理常数见下表：

请回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)写出装置\(\rm{A}\)中发生反应的离子方程式：_______________________________________________________________________。

\(\rm{(2)}\)装置\(\rm{A}\)中\(\rm{g}\)管的作用是_________；装置\(\rm{C}\)中的试剂是________；装置\(\rm{E}\)中的\(\rm{h}\)瓶需要冷却的理由是___________________________________________________。

\(\rm{(3)}\)装置\(\rm{E}\)中\(\rm{h}\)瓶收集到的粗产物可通过精馏\(\rm{(}\)类似多次蒸馏\(\rm{)}\)得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是________\(\rm{(}\)填写元素符号\(\rm{)}\)。

\(\rm{(4)}\)为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成\(\rm{Fe}\)\(\rm{{\,\!}^{2+}}\)，再用\(\rm{KMnO}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式为\(\rm{5Fe}\)\(\rm{{\,\!}^{2+}}\)\(\rm{+MnO}\)\(\rm{\rlap{_{4}}{^{-}}}\)\(\rm{+8H}\)\(\rm{{\,\!}^{+}}\)\(\rm{═5Fe}\)\(\rm{{\,\!}^{3+}}\)\(\rm{+Mn}\)\(\rm{{\,\!}^{2+}}\)\(\rm{+4H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)\(\rm{O}\)。

\(\rm{①}\)滴定前是否需要滴加指示剂？__________\(\rm{(}\)填“是”或“否”\(\rm{)}\)，请说明理由：__________________________________________________________________。

\(\rm{②}\)某同学称取\(\rm{5.000 g}\)残留物，经预处理后在容量瓶中配制成\(\rm{100 mL}\)溶液，移取\(\rm{25.00 mL}\)试样溶液，用\(\rm{1.000×10}\)\(\rm{{\,\!}^{-2}}\) \(\rm{mol·L}\)\(\rm{{\,\!}^{-1}}\) \(\rm{KMnO}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液\(\rm{20.00 mL}\)，则残留物中铁元素的质量分数是________。

某校化学兴趣小组对以下三种品牌牙膏中摩擦剂成分进行调查，结果如下表：

\(\rm{(1)}\)上述三种摩擦剂中属于酸性氧化物的是________\(\rm{(}\)填化学式，下同\(\rm{)}\)；既能与强酸反应又能与强碱反应的是________。

\(\rm{(2)}\)两面针儿童牙膏中摩擦剂成分与\(\rm{NaOH}\)溶液反应的离子方程式________。

\(\rm{(3)}\)从摩擦剂成分考虑，向珍珠防臭牙膏样品中滴加少量稀盐酸，可观察到有气泡产生，该反应的离子方程式为_____________________________。

\(\rm{(4)}\)中华透明牙膏摩擦剂\(\rm{SiO_{2}}\)是工业制备晶体硅的原料，其反应原理是________________________\(\rm{(}\)用化学反应方程式表示\(\rm{)}\)。