硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

  \(\rm{(1)}\)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷\(\rm{(SiHCl_{3})}\)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

    \(\rm{①}\)写出由纯\(\rm{SiHCl_{3}}\)制备高纯硅的化学反应方程式_____________________________。

    \(\rm{②}\)整个制备过程必须严格控制无水无氧。\(\rm{SiHCl_{3}}\)遇水剧烈反应生成\(\rm{H_{2}SiO_{3}}\)、\(\rm{H_{2}}\)和另一种酸，写出并配平化学反应方程式________________；\(\rm{H_{2}}\)还原\(\rm{SiHCl_{3}}\)过程中若混入\(\rm{O_{2}}\)，可能引起的后果是_______________。

  \(\rm{(2)}\)下列有关硅材料的说法正确的是___________。

     \(\rm{A.}\)盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

     \(\rm{B.}\)氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

     \(\rm{C.}\)高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料\(\rm{——}\)光导纤维

     \(\rm{D.}\)普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高，硬度很大

   \(\rm{(3)}\)自然界中硅酸盐种类多，结构复杂，通常用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成\(\rm{.}\)如正长石\(\rm{(KALSi_{3}O_{8})}\)，氧化物形式为_____。

  \(\rm{(4)}\)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入稀硝酸，产生的实验现象为_________________，水玻璃在工业上有许多用途，试举出一例________________________。

下表为元素周期表的一部分，请参照元素\(\rm{①～⑨}\)在表中的位置，用化学用语回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)画出\(\rm{⑦}\)的原子结构示意图       ；写出其单质的一种重要用途     。

\(\rm{(2)②}\)、\(\rm{⑤}\)、\(\rm{⑥}\)的原子半径由大到小的顺序为_________             __\(\rm{(}\)用元素符号表示\(\rm{)}\)；\(\rm{⑦}\)、\(\rm{⑧}\)、\(\rm{⑨}\)的最高价含氧酸的酸性由强到弱的顺序是________________\(\rm{(}\)用化学式表示\(\rm{)}\)。

\(\rm{(3)②}\)的单质与\(\rm{③}\)、\(\rm{⑧}\)的最高价氧化物对应水化物的浓溶液都能发生反应，其反应的化学方程式分别为                                                  ；                                                                           

                                                                                                       。

\(\rm{(4)X}\)、\(\rm{Y}\)是中学化学中的常见物质，\(\rm{X}\)、\(\rm{Y}\)分别由元素\(\rm{④}\)、\(\rm{⑤}\)和\(\rm{②}\)、\(\rm{④}\)形成，\(\rm{X}\)与\(\rm{Y}\)的反应是潜水艇和呼吸面具中氧气的来源。\(\rm{X}\)中含有的化学键类型是              ；\(\rm{Y}\)的电子式是            ；写出\(\rm{X}\)、\(\rm{Y}\)之间反应的化学方程式                                     ；当反应中有\(\rm{3.01×10^{23}}\)个电子转移时，参加反应的\(\rm{Y}\)的质量是           \(\rm{g}\)。

\(\rm{(5)}\)由表中两种元素的原子按\(\rm{1:1}\)组成的常见液态化合物的稀溶液易被催化分解，可使用的催化剂为\(\rm{(}\)填序号\(\rm{)}\)                         。

\(\rm{a.MnO_{2}}\)     \(\rm{b.FeCl_{3}}\)      \(\rm{c.Na_{2}SO_{3}}\)     \(\rm{d.KMnO_{4}}\)

元素单质及其化合物有广泛用途，请根据周期表中第三周期元素相关知识回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)按原子序数递增的顺序\(\rm{(}\)稀有气体除外\(\rm{)}\)，以下说法正确的是________。

\(\rm{a.}\)原子半径和离子半径均减小   \(\rm{b.}\)金属性减弱，非金属性增强

\(\rm{c.}\)氧化物对应的水化物碱性减弱，酸性增强 \(\rm{d.}\)单质的熔点降低

\(\rm{(2)}\)原子最外层电子数与次外层电子数相同的元素名称为________，氧化性最弱的简单阳离子是________。

\(\rm{(3)}\)已知：

工业制镁时，电解\(\rm{MgCl_{2}}\)而不电解\(\rm{MgO}\)的原因是_______________；

制铝时，电解\(\rm{Al_{2}O_{3}}\)而不电解\(\rm{AlCl_{3}}\)的原因是____________________。

\(\rm{(4)}\)晶体硅\(\rm{(}\)熔点\(\rm{1410℃)}\)是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下：

\(\rm{Si(}\)粗\(\rm{)^{460℃}Cl_{2}460 ℃SiCl_{4}SiCl_{4}(}\)纯\(\rm{)^{1100℃}H_{2}1100 ℃Si(}\)纯\(\rm{)}\)

用电子式表示\(\rm{SiCl_{4}}\)的形成过程________________          ；

\(\rm{(5)P_{2}O_{5}}\)是非氧化性干燥剂，下列气体不能用浓硫酸干燥，可用\(\rm{P_{2}O_{5}}\)干燥的是________。

\(\rm{a.NH_{3}}\)  \(\rm{b.HI}\) \(\rm{c.SO_{2}}\) \(\rm{d.CO_{2}}\)

\(\rm{(6)KClO_{3}}\)可用于实验室制\(\rm{O_{2}}\)，若不加催化剂，\(\rm{400℃}\)时分解只生成两种盐，其中一种是无氧酸盐，另一种盐的阴阳离子个数比为\(\rm{1∶1}\)。写出该反应的化学方程式：______________________________________。

硅是带来人类文明的重要元素之一，从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹。

\(\rm{(1)}\)新型陶瓷\(\rm{Si_{3}N_{4}}\)的熔点高、硬度大、化学性质稳定。工业上可以采用化学气相沉积法，在\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的保护下，使\(\rm{SiCl}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)与\(\rm{N}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)反应生成的\(\rm{Si}\)\(\rm{{\,\!}_{3}}\)\(\rm{N}\)\(\rm{{\,\!}_{4}}\)沉积在石墨表面，写出该反应的化学方程式：___________________________________________________________________。

\(\rm{(2)}\)工业上可以通过如图所示的流程制取纯硅：

\(\rm{①}\)整个制备过程必须严格控制无水无氧。\(\rm{SiHCl_{3}}\)遇水剧烈反应生成\(\rm{H_{2}SiO_{3}}\)、\(\rm{HCl}\)和另一种物质，写出该反应的化学方程式：___________________。

\(\rm{②}\)假设每一轮次制备\(\rm{1 mol}\)纯硅，且生产过程中硅元素没有损失，反应Ⅰ中\(\rm{HCl}\)的利用率为\(\rm{90\%}\)，反应Ⅱ中\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的利用率为\(\rm{93.75\%}\)。则在第二轮次的生产中，补充投入\(\rm{HCl}\)和\(\rm{H}\)\(\rm{{\,\!}_{2}}\)的物质的量之比是________。

硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题：

\(\rm{(1)}\)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷\(\rm{(SiHCl_{3})}\)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

\(\rm{①}\)写出由纯\(\rm{SiHCl_{3}}\)制备高纯硅的化学反应方程式                               。

\(\rm{②}\)整个制备过程必须严格控制无水、无氧。\(\rm{SiHCl_{3}}\)遇水剧烈反应生成\(\rm{H_{2}SiO_{3}}\)、\(\rm{HCl}\)和另一种物质，写出配平的化学反应方程式                     ；

\(\rm{(4)}\)二氧化硅用途较为广泛，它是玻璃的主要成分之一，请回答下列问题：

普通玻璃的主要成份是                          ，玻璃熔炉中的主要反应有：                                                 ；